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第1262章（第2页）
“如果真能达到7纳米，那已经可以满足大部分高端芯片需求了。如果真的投产，绝对能在半导体行业引发全球大地震。”
“等一等，他刚才提到的折射率补偿算法，我在一篇未公开的论文里见过类似思路！”
顾北舟眼神略过这些评论，心中更加安定。
这些资料中有许多是劳伦斯给他的全球顶尖研究所未公布的实验数据，果然足够先进。至少此刻让这些业内人士认可绝对不成问题。
“那现在，让我们看看‘光刻机’的内部结构。”
顾北舟按下控制台的一个按钮，光刻机的前面板缓缓打开，露出内部精密的机械结构。
肖芙将镜头拉近，对准了那一排排神秘莫测的激光发射器。
顾北舟详细讲解每一个组件的功能，从光源系统到投影透镜，从掩模台到硅片台，他的解说十分流畅又不乏专业度，偶尔插入一些自己独自研究的小故事和小发现，保证既能让业内人士明白这台光刻机的“权威性”，又让围观群众知道他付出得心血到底有多少。
“最困难的部分是反射镜系统。”
顾北舟沉声说道，“因为EUV光会被几乎所有材料吸收，所以在实验一开始我们就知道不能使用现在最普遍的透射式光学系统，而必须采用反射式。这就要求反射镜的表面粗糙度必须控制在0。3纳米以下——这个精细程度，就是全球所有先进科研实验室迟迟无法攻克的难点。”
说完，他调出一组显微镜图像，面相镜头介绍。
“这是我们自主研发的硅层反射镜，经过半年试验，终于将反射率提高到60%以上。虽然听起来不高，但在这个领域来说已经是突破性的进展。”
弹幕几乎被赞叹声淹没：
“60%？现在KCD最新公布的也才这个水平！这可是能拿科研大奖的水准啊，居然被顾北舟一个人做到了！”
“如果他没造假，这确实是重大突破。”
“何止重大突破，简直天降紫薇星的程度啊。”
“我开始相信了。。。。。。这些细节不可能凭空编造。”
“这些机械结构的精度很棒不可能普通加工厂能做出来的，所以顾北舟没骗我们，他很有可能已经秘密研究很多年了。”
“他和他的父亲，到底是付出了多少心血和努力，才能以一己之力，把光刻机这么难啃的骨头做到目前全球最先进水平的啊，这就是科研人艰苦笃行的心性吗？”
“我都不知道该说什么好了。顾北舟，对不起我之前不应该随便骂你。”
“对不起?1。。。。。。”
“。。。。。。”
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